ЗНТЦ завершил третий этап ОКР по литографу для техпроцесса 130 нм

Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) завершил третий этап опытно-конструкторских работ по созданию литографической установки, рассчитанной на обработку 200-мм пластин по нормам 130 нм. Об этом сообщает Tom’s Hardware со ссылкой на CNews. Первый инженерный образец уже проходит внутренние инженерные и приёмочные испытания.

Готовность прототипа не означает немедленного запуска в производство. После испытаний разработчикам необходимо доработать конструкцию и подтвердить параметры установки, включая качество формирования изображения, совмещение слоёв, надёжность и производительность. Затем опытные машины должны будут испытать и квалифицировать предприятия — производители микросхем.

По данным Tom’s Hardware, в документах, изученных CNews, белорусская компания «Планар» указана как разработчик самой литографической системы. Она также отвечала за изготовление механических узлов и компонентов и ввод прототипа в эксплуатацию. Лазерный источник разработала Lassard. За ЗНТЦ, как утверждается, закреплены разработка комплекса в целом, проектирование испытательного и технологического оснащения, расчёты проекционного объектива, моделирование и разработка технологического процесса.

На всю программу разработки Минпромторг России выделил около 70 млн долларов, пишет издание. Стоимость одного степпера оценивается в 6,7 млн долларов, ещё примерно 600 тыс. долларов приходится на лазерный источник.

Tom’s Hardware отмечает, что российские производители микросхем ранее создавали техпроцессы класса 130 нм, однако использовали для литографии оборудование ASML. Возможность интеграции новой установки в действующие производственные процессы пока не подтверждена. Издание также подчёркивает, что сообщения о «первом российском литографе на 130 нм» требуют осторожного отношения: в проекте участвует белорусский «Планар».